English: n-channel and p-channel MOSFET's in lightly doped drain (LDD) design. Individual transistors are electricaly separated by shallow trench isolation (STI) trenches.
Deutsch: n-Kanal- und p-Kanal-MOSFETs mit LDD-Erweiterungen (LDD = lightly doped drain). Die einzelnen Bauelemente durch STI-Gräben (STI = shallow trench isolation) von einander elektrisch isoliert
Русский: n-канальный и p-канальный МОП-транзисторы в структуре с щелевой изоляцией (STI)
Я, владелец авторских прав на это произведение, добровольно публикую его на условиях следующих лицензий:
Разрешается копировать, распространять и/или изменять этот документ в соответствии с условиями GNU Free Documentation License версии 1.2 или более поздней, опубликованной Фондом свободного программного обеспечения, без неизменяемых разделов, без текстов, помещаемых на первой и последней обложке. Копия лицензии включена в раздел, озаглавленный GNU Free Documentation License.http://www.gnu.org/copyleft/fdl.htmlGFDLGNU Free Documentation Licensetruetrue
делиться произведением – копировать, распространять и передавать данное произведение
создавать производные – переделывать данное произведение
При соблюдении следующих условий:
атрибуция – Вы должны указать авторство, предоставить ссылку на лицензию и указать, внёс ли автор какие-либо изменения. Это можно сделать любым разумным способом, но не создавая впечатление, что лицензиат поддерживает вас или использование вами данного произведения.
Файл содержит дополнительные данные, обычно добавляемые цифровыми камерами или сканерами. Если файл после создания редактировался, то некоторые параметры могут не соответствовать текущему изображению.